三星宣布完成5納米EUV工藝研發 將向客戶提供樣品

騰訊科技訊 據國外媒體報導稱，世界領先的半導體技術公司三星電子公司今天宣布，其5納米FinFET工藝技術已經完成開發，現已準備好向客戶提供樣品，三星也通過這一點再次證明了其在尖端製造市場的領導地位。

與7納米工藝相比，三星的5納米FinFET工藝技術提供了高達25%的邏輯面積效率提高。同時由於工藝改進，其功耗降低了20%、性能提高了10%，從而使芯片能夠擁有更具創新性的標準單元架構。

從7納米到跨越到5納米工藝，除了在功率性能區域（PPA）的數據提高之外，客戶還可以充分利用三星高度複雜的EUV技術（ExtremeUltraviolet Lithography，極紫外光刻，常稱作EUV光刻），有助於產品接近性能極限。

5納米工藝的另一個主要優點是，我們可以將所有7納米的相關知識產權重用到5納米工藝上。因此，7納米客戶向5納米過渡將得以大幅降低遷移成本、擁有預先經過驗證的設計生態系統，從而大幅縮短其5納米產品的開發周期。

由於三星鑄造（Samsung Foundry）與其“三星高級鑄造生態系統”（SamsungAdvanced Foundry Ecosystem）合作夥伴之間的密切合作，自2018年第四季度以來，三星5納米產品就擁有了強大的設計基礎設施，包括工藝設計工具、設計方法、電子設計自動化工具和IP。此外，三星鑄造已經開始向客戶提供5納米多項目晶片服務。

三星電子鑄造業務執行副總裁查理·貝耶（Charlie Bae）說：“在成功完成5納米工藝的開發過程中，我們已經證明了自己在EUV技術領域的強大科研能力。為了滿足客戶對先進工藝技術不斷增長的需求，以使他們的下一代產品與眾不同，我們將繼續致力於加快EUV技術的批量投產工作。”

2018年10月，三星宣布將首次生產7納米製程工藝芯片，這是三星首個採用EUV光刻技術的產品。如今，該公司已經提供了行業內第一個基於EUV的商業樣品，並已於今年年初開始批量投產7納米芯片。

此外，三星還在與客戶合作開發6納米芯片，這是一種基於EUV技術的定製產品。

貝耶表示：“考慮到包括PPA和IP在內的各種優勢，三星基於EUV工藝的產品預計將對5G、人工智能、高性能計算和汽車等新的創新應用產生很高的需求。憑借我們強大的技術競爭力，包括我們在EUV光刻領域的領先地位，三星將繼續向客戶提供最先進的技術和解決方案。”

據悉，三星鑄造公司基於EUV工藝的生產工作已被安排在了位於韓國華雄工廠的S3生產線。此外，三星還將把其EUV產能擴展到華雄的一條新的EUV生產線，該生產線預計將在2019年下半年完工，並於明年開始量產。（騰訊科技審校/湯姆）