台積電宣布啟動2nm工藝研發，預計2024年投產

摘要：今年4月初，晶圓代龍頭大廠台積電宣布，其5nm製程已正式進入試產階段，並已在開放創新平台下推出完整的5nm設計架構。現在，台積電官方又宣布，正式啟動2nm工藝的研發，工廠設置在位於台灣新竹的南方科技園，預計2024年投入生產。

今年4月初，晶圓代龍頭大廠台積電宣布，其5nm製程已正式進入試產階段，並已在開放創新平台下推出完整的5nm設計架構。現在，台積電官方又宣布，正式啟動2nm工藝的研發，工廠設置在位於台灣新竹的南方科技園，預計2024年投入生產。

按照台積電給出的指標顯示，2nm工藝是一個重要節點，Metal Track(金屬單元高度)和3nm一樣維持在5x，同時Gate Pitch(晶體管柵極間距)縮小到30nm，Metal Pitch(金屬間距)縮小到20nm，相比於3nm都小了23％。

台積電沒有透露2nm工藝所需要的技術和材料，看晶體管結構示意圖和目前並沒有明顯變化，能在矽半導體工藝上繼續壓榨到如此地步真是堪稱奇跡，接下來就看能不能做到1nm了。當然，在那之前，台積電還要接連經歷7nm、6nm、5nm、3nm等多個工藝節點。

其中，台積電的7nm 工藝將首次引入EUV極紫外光刻技術，目前已即將量產；而6nm只是7nm的一個升級版，預計明年第一季度試產；5nm工藝將全面導入EUV光刻，已經開始風險性試產，明年底之前有望實現量產，蘋果A14、AMD五代銳龍(Zen 4都有望采納)；3nm有望在2021年試產、2022年量產。三星也早就規劃到了3nm，預期2021年量產。

編輯：芯智訊-林子