Intel：10nm今年年底即將上架！2021年7nm上馬 Xe獨立顯卡首發

　　Intel今天舉行了兩年來的第一次投資者會議，新任CEO司睿博親自上陣，向投資者們披露了大量未來產品和技術規劃。

　　首先是工藝方面，Intel承認在10nm工藝上冒險太大，設置了過高的技術指標，導致一再延期，未來會在新工藝開發中重新定義預期指標，不一味過高追求。

　　具體來說，14nm工藝(對標台積電10nm)會繼續充實產能，滿足市場需求。10nm工藝(對標台積電7nm)消費級產品今年年底購物季上架，伺服器端明年上半年。

　　Intel 7nm工藝將對標台積電5nm，目前的計劃是2021年就投產並發布相關產品。

　　這距離10nm量產上架還不到兩年時間，顯然是大大加速了，看起來Intel真的充分汲取了10nm上的教訓，應該對7nm進行了調整，以加速上市。

　　同時，Intel會持續像現在的14nm一樣，對每一代新工藝持續進行優化，也就是會繼續出現很多+++版本，但不會像台積電、三星那樣改進一下就是新名字(11nm/8nm/6nm)。

　　10nm今年上陣，明後年將接連出現10nm+、10nm++；7nm 2021年登場，2022年、2023年則連續推出7nm+、7nm++。

　　7nm工藝上Intel會第一次使用EVU極紫外光刻，但不確定是初代就加入，還是類似台積電等待改進版的第二代。