科技日報：中科院國產22納米光刻機治不了咱們的“芯”病

11月29日，中科院研製的“超分辨光刻裝備”通過驗收。消息傳著傳著，就成了謠言——《國產光刻機偉大突破，國產芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破“芯片荒”》……

筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗收會，寫了報導，還算熟悉，無法苟同一些漫無邊際的瞎扯。

中科院研製的這種光刻機不能（像一些網媒說的）用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實現較高的分辨率，用於一些特殊製造場景，很經濟。

先解釋下：光刻機不光是製造芯片用。一張平面（不論矽片還是什麽材料）想刻出繁複的圖案，都可以用光刻——就像照相，影像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個多世紀前，美國人用這個原理“印刷”電路，從而有了大規模集成電路——芯片。

為了節能和省矽料，芯片越做越小，逼得光刻機越做越極端。線條細到一定程度，投影就模糊了。要清晰投影，線條粗細不能低於光波長的一半。頂尖光刻機用波長13.5納米的極紫外光源，好刻10納米以下的線條。

但穩定的、大功率的極紫外光源很難造，一個得3000萬元人民幣。要求工作環境嚴苛，配合的光學和機械部件又極端精密，所以荷蘭的ASML公司獨家壟斷極紫外光刻機，創造了“一台賣一億美金”的神話。

十幾年前，國際上開始對表面等離子體（surface plasma，SP）光刻法感興趣。中科院光電所從2003年開始研究，是較早出成果的一個團隊。所謂SP，光電所的科學家楊勇向筆者解釋：拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸，界面上有一些亂蹦的電子；光投影在金屬上，這些電子就有序地震蕩，產生波長幾十納米的電磁波，可用來光刻。

但這種電磁波很弱，所以光刻膠得湊近了，才能刻出來。且加工精度與ASML的光刻機沒法比。刻幾十納米級的芯片是沒法用SP光刻機的，至少以現在的技術不能。

驗收會上也有記者問：該光刻設備能不能刻芯片，打破國外壟斷？光電所專家回答說，用於芯片需要攻克一系列技術難題，距離還很遙遠。

總之，中科院的22納米分辨率光刻機跟ASML壟斷的光刻機不是一回事，說前者彎道超車，就好像說中國出了個競走名將要超越博爾特。

各家媒體第一時間報出的資訊，就我看到的還算中規中矩。但後來網媒添枝加葉，搞到離譜。有些傳播者為吸引眼球、賺錢，最愛製造“自嗨文”和“嚇尿體”。聽到國產科技成就先往大裡吹，驢吹成馬，馬吹成駱駝，好賣個駱駝價。

這種“科技報導”是滿足虛榮心的偽新聞。行家聽了眉頭一緊，避之大吉。也難怪許多科學家怕上新聞。