江豐電子：已掌握7nm工藝濺射靶材核心技術

半導體產業是高科技行業，技術門檻高，產值也高，全球半導體行業今年的產值有望達到5000億美元。半導體制造不僅需要先進的光刻機，材料也是其中重要的一環，主要包括矽片、光刻膠、高純度試劑、CMP材料，濺射靶材也是其中之一。國內濺射靶材行業龍頭公司江豐電子日前表示該公司已經掌握了用於7nm工藝節點的金屬濺射靶材核心技術，目前正在積極與客戶溝通評價事宜。

高純金屬濺射靶材主要是指純度為 99.9%-99.999%的金屬靶材，應用於電子元器件製造的物理天氣沉積(PVD)工藝，是製備電子薄膜的關鍵材料。濺射是製備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源

產生的離子，在真空中經過加速聚集而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體並沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。

根據江豐電子的資料，該公司生產的金屬濺射靶材主要有四種：鋁、鈦、鉭、鎢鈦靶。除此之外，公司生產的其他產品包括銅靶、鎳靶、鈷靶、鉻靶、陶瓷靶等濺射靶材以及金屬蒸發料、LCD 用碳纖維複合材料部件(主要包括碳纖維支撐、碳纖維傳動軸、碳纖維叉臂)等，同時公司對外出售從客戶端回收的鉭靶(含鉭環)和鈦靶(含鈦環)等，並向客戶提供環件的清洗翻新服務。

目前江豐電子生產的金屬靶材純度如下所示：

在金屬濺射靶材方面，江豐電子是國內行業龍頭，根據該公司於8月29日發布2018年半年度報告，2018年上半年營業收入2.96億元，同比增長 18.11%；歸母淨利潤 0.25 億元，同比增長 19.48%。不過全球行業龍頭霍尼韋爾今年上半年營收213億美元，其中包括濺射靶材在內的先進材料業務2018年上半年營收達到14.55億美元。

在新一代製程工藝所用的濺射靶材方面，江豐電子今天公告稱已經掌握了7nm節點工藝的金屬濺射靶材的核心技術，目前正在積極與客戶溝通評價事宜，不過該公司並沒有提及具體詳情。

江豐電子的客戶包括台積電、Globalfoundries、聯電、中芯國際等，不過現在7nm節點上只有台積電有量產，GF、聯電都已經退出先進工藝研發，中芯國際的7nm工藝還在早期探索階段。

此外，掌握7nm工藝用的金屬靶材跟掌握7nm工藝並不一樣，靶材並不影響工藝先進程度。此外，半導體行業對新產品、新技術的接納會有很長時間的認證測試過程，江豐電子在初次打入台積電供應鏈時用了5-8年時間，不過現在的認證時間已經大幅縮短到1-2年。