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中國公司喜提兩台核心機器 突破芯片技術封鎖

  突破芯片技術封鎖!中國公司“喜提”兩台核心機器,價值12億

  近日,武漢天河機場迎來了一箱比黃金還要貴重的進口設備!

  據cnBeta、環球網、快科技等多家媒體證實,長江存儲從荷蘭阿斯麥(ASML)公司訂購的一台光刻機已抵達武漢。這台光刻機價值高達7200萬美元,大約人民幣4.6億元。

  另據日經亞洲評論(Nikkei Asian Review)上周報導,中芯國際也向阿斯麥下單了一台價值高達1.2億美元的EUV(極紫外線)光刻機。這台機器預計將於2019年初交貨。

  每經小編注意到,荷蘭當地媒體《埃因霍溫經濟報》也證實了上述消息。

  從飛利浦獨立出來的阿斯麥公司在高端光刻機領域佔據了全球90%的市場份額。光刻機(又稱曝光機)是生產大規模集成電路的核心設備,對芯片工藝有著決定性的影響。

▲法國研究所暗室中的小型曝光機▲法國研究所暗室中的小型曝光機

  如今,中國兩家企業先後訂購了兩台高端光刻機,總價值約12.3億元人民幣。據日經亞洲評論報導,阿斯麥公司有關人士否認有媒體關於“高端光刻機對中國大陸禁運”的傳聞,強調對中國大陸客戶一視同仁。

  此外,阿斯麥公司接受中芯國際訂單的時間點是在今年4月中興通訊遭遇美國製裁之後。

  長江存儲迎來第一台光刻機

  2016年,紫光集團與國家集成電路產業投資基金、湖北科投等合資成立了長江存儲,注冊資本額為人民幣386億元。長江存儲公司是中國高端芯片聯盟發起部門之一,被寄望推動中國半導體產業自主研發。

 ▲長江存儲官網宣傳片截圖 ▲長江存儲官網宣傳片截圖

  據快科技等報導,長江存儲訂購的這台光刻機採用193nm沉浸式設計,可生產20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓,售價達7200萬美元,大約人民幣4.6億元。

  目前,該機已經運抵武漢天河機場,相關入境手續辦理完畢後,即可運至長江存儲的工廠。

  根據官網資料,2016年底,國家記憶體基地項目(一期)一號生產和動力廠房在武漢正式開工建設,2017年9月底提前封頂,2018年4月5日首批價值400萬美元的精密儀器進場安裝。

 ▲國家記憶體基地項目芯片生產機安裝儀式(圖片來源:長江存儲官網) ▲國家記憶體基地項目芯片生產機安裝儀式(圖片來源:長江存儲官網)

  目前,長江存儲擁有完全自主知識產權的32層堆疊3D NAND閃存已經開始試產,不少產業鏈企業都拿到了試映片測試,預計今年第四季度量產。同時,長江存儲還在推進64層堆疊3D閃存,力爭2019年底實現規模量產,將與世界領先水準差距縮短到2年之內。

  中芯國際進軍“7納米”時代

  每經小編注意到,2000年成立的中芯國際(SMIC)總部位於上海。在港股上市的中芯國際據稱是中國大陸規模最大、技術最先進的集成電路芯片製造企業之一。

  據日經亞洲評論報導,儘管中芯國際在這一市場仍落後於市場領先者兩至三代技術,但是購買到目前世界最先進的EUV光刻機,彰顯了其努力追趕的決心。

 ▲阿斯麥官網產品示意圖 ▲阿斯麥官網產品示意圖

  每經小編了解到,EUV是目前世界上最昂貴也是最先進的芯片生產工具。小於5納米的芯片晶圓,目前只能用EUV光刻機生產。三星電子和台積電目前正競爭生產7納米工藝技術芯片,這兩家都訂購了阿斯麥公司的EUV光刻機。

  中芯國際這次引進的EUV光刻機預計將於2019年初交付。而在2017年3月,中芯國際宣布將進軍7納米工藝技術的研發。

  有芯片行業高管表示,

  “購買這樣的機器雖然不能保證100%成功,但這至少顯示了中芯國際自主研發的決心和動力。”

  光學研究機構人士表示,

  “這台光刻機一旦安裝完成,將會極大縮短工藝時長,並且讓廠商有能力嘗試生產更複雜的高精度芯片。”

  ▲圖片來源:攝圖網 (圖文無關)  ▲圖片來源:攝圖網 (圖文無關)

  中芯國際2017年淨利潤為1.264億美元,幾乎全部用於這台光刻機的訂購了。2018年一季度,中芯國際淨利潤為2937萬美元。

  中芯國際聯合首席執行官趙海軍在5月10日的財報電話會議上稱,該公司將2018年芯片生產的全年資本支出從19億美元上調至23億美元。

  光刻機:摩爾定律“守護神”

  那麽,這種無比金貴的光刻機,到底有什麽樣神奇的魔力呢?

  光刻機是生產大規模集成電路的核心設備,製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎,世界上只有少數廠家掌握。因此光刻機的價格昂貴,通常在3000萬至5億美元不等。

  目前,雖然尼康、佳能等對手都在勉力競爭,但是阿斯麥公司掌握了90%以上的高端光刻機市場份額。最新的兩代高端光刻機領域,即浸入式(Immersion)和極紫外線式(EUV)光刻機,全部由阿斯麥掌握核心技術。

  ▲刻蝕後的晶圓(圖片來源:維 基百科)  ▲刻蝕後的晶圓(圖片來源:維 基百科)

  光刻機的作用是掃描曝光芯片晶圓,刻蝕集成電路。精度越高的光刻機,能生產出納米尺寸更小,功能更強大的芯片。

  目前,蘋果iPhone X和iPhone 8系列的核心處理器芯片,採用了台積電的10納米工藝技術,而今年即將推出的新款iPhone將使用7納米工藝技術。阿斯麥的EUV光刻機,則能生產出5納米工藝級別的芯片。

  因此,阿斯麥的光刻機甚至被稱為“摩爾定律”的守護神。眾所周知,摩爾定律是指每隔兩年左右一個芯片上的晶體管數量將翻一番,因此芯片的性能將相應提高。

  隨著芯片面積越來越小,很多人開始擔心1965年提出的摩爾定律將要失效。但是光刻機的更新換代,卻還在將芯片工藝推向極致,大體上維持著摩爾定律。

  阿斯麥看好中國大陸市場

  《瓦森納協定》是一項由40個國家簽署的協定,限制締約國向非締約國出售敏感性高科技技術。

  此前曾有一種說法,認為最高端的光刻機技術受到《瓦森納協定》影響,被禁止向中國大陸出售。然而,阿斯麥公司發言人向日經新聞駁斥了這一傳聞。

  該發言人表示,阿斯麥公司對全球各地包括中國大陸在內的客戶一視同仁,對中國大陸晶圓廠商的出口不受《瓦森納協定》等任何限制。

 ▲圖片來源:攝圖網 (圖文無關) ▲圖片來源:攝圖網 (圖文無關)

責任編輯:李彥麗

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