厚積“薄”發 中國首支雷射薄膜團隊國際摘“金”

大尺寸雷射薄膜反射元件。中科院上海光機所 供圖

中新網上海10月10日電 (鄭瑩瑩)中國第一支專業從事雷射薄膜的研究團隊在國際學術界再次摘“金”。10日，來自中國科學院上海光學精密機械研究所(簡稱：中科院上海光機所)的消息，該所的薄膜光學實驗室在2018年基頻雷射反射薄膜元件雷射損傷閾值國際競賽中再次獲得第一名。據介紹，該競賽由美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室發起，參賽者來自6個國家的18個部門，參賽部門都是國際薄膜領域的知名研究機構和公司。

高功率雷射薄膜的製備是一個工藝環節冗長、複雜的系統工程，涉及多學科交叉，難度極大，西方國家對中國實施嚴密的技術封鎖和產品禁運。1964年，中科院上海光機所建所，薄膜光學實驗室同步成立，成為中國第一支專業從事雷射薄膜研究的團隊。

這些年，這支隊伍的發展很快。項目負責人朱美萍介紹，該國際競賽一共舉辦了11次，中科院上海光機所參加了6次，前幾年團隊還處於中等水準，一直到2012年團隊首次在閾值競賽中拿到第一名，但當時和第二名還比較接近；時隔多年後再次參加，獲勝優勢明顯，比第二名損傷閾值高出20%。

高功率雷射薄膜是構成雷射聚變裝置、超強超短雷射等強雷射系統不可或缺的元件。朱美萍舉例解釋說，雷射聚變裝置是當前輸出能量要求最高的強雷射系統，這個系統裡有數千件米級尺寸薄膜元件和數萬件中小口徑的薄膜元件。這個元件在裝置裡，就像人類的血管一樣，引導著雷射在雷射裝置裡傳輸，元件的性能影響著雷射裝置輸出的能量和光束的品質。雷射的損傷閾值代表著這個元件“控制指揮”雷射的能力，其數值大小決定著能不能把雷射能量完整地護送到靶點。

半個多世紀以來，中科院上海光機所的薄膜光學實驗室聚焦大能量與高功率雷射這一國家重大戰略需求，攻克了系列關鍵技術難題，為中國神光系列高功率雷射裝置、超強超短雷射裝置等系統提供了大量高性能核心雷射薄膜元件。此番，在國際範圍內的雷射薄膜損傷閾值提升競爭中，該團隊從跟跑、並跑，最終實現超越，強化了中國在該領域的國際領先地位。

年近80歲的團隊學術總顧問范正修1964年就投身雷射薄膜工作，在當天的採訪中，他說，目前這些成果是半個多世紀以來，幾代人鍥而不捨、不懈努力而來的。(完)